트랜지스터는 전류의 증폭과 스위칭이 가능한 소자다.
Bipolar Junction Transistor와 Junction Field Effect Transistor로 나뉜다.
BJT는 이미터, 베이스, 콜렉터로 구성된다.
이미터와 콜렉터는 같은 type의 반도체고, 이미터가 더 높게 도핑되어 있다.
이미터와 베이스는 순방향 전압을,
베이스와 콜렉터는 역방향 전압을 인가한다.
pnp BJT라 할 때 VEB는 입력회로, VCB는 출력회로가 된다.
정공은 베이스로, 전자는 이미터로 주입된다.
VEB에 의해 베이스에서 재결합이 없다면 정공은 콜렉터로 흐르게 된다.
즉, VEB에 의해 IC 출력량이 제어되고 VCB로 스위칭된다.
FET는 소스, 게이트, 드레인으로 구성된다.
게이트는 캐리어의 흐름을 제어하는 역할을 하고
캐리어는 소스에서 드레인으로 흐른다.
n-channel JFET는 소스와 드레인이 n type에 연결되어 있고
게이트가 p에 연결되어 있는 pnp 구조다.
VDS를 순방향으로 인가하면 전류가 흐른다.
하지만 게이트 쪽의 공핍층은 역방향이기 때문에
전압이 늘어날수록 공핍층의 두께가 늘어나고
일정 전압 이상에서 pinch off 되어 전류의 양이 제한된다.
VDS(sat)=Vp+VGS이므로
VGS의 역방향 바이어스 크기에 따라 최대 전류가 제한된다.
MOSFET은 Metal-Oxide-Semiconductor를 일컫는다.
MOS에 전압이 인가되면 금속 쪽의 반도체 표면에 공핍층이 형성된다.
전압이 더 증가하면 공핍층의 폭은 증가하지 않고
공핍층 표면에 전도 전자가 증가해 반전층이 형성된다.
증가형 n-MOSFET은 고전압에서 전자의 반전층이 형성되고
증가형 p-MOSFET은 저전압에서 정공의 반전층이 형성된다.
증가형 n-MOSFET은 npn구조로
소스와 드레인이 각각 n에, 게이트가 p에 연결된다.
VGS는 순방향, VDS는 역방향으로 회로를 구성한다.
VGS>Vth로 문턱전압을 넘어야 반전층이 형성된다.
하지만 VDS>VDS(sat)인 경우 저항이 증가해 pinch off 되며
VGD=VGS-VDS(sat)=Vth로 드레인 전류가 IDS로 포화된다.
따라서 VGS가 반전층의 너비를 결정하고 VGS가 전류량을 제어한다.
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